磁控溅射镀膜机
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。
真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来。真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀
(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?
一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。
二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。
三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。