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靶材是通过磁控溅射、电子束蒸发或其他类型的镀膜系统（设备）在适当的工艺条件下，溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

一般靶材主要由靶坯、背板等部分构成，其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的重要部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。

PVD技术的发展

PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速钢dao具领域的成功应用引起了各国制造业的高度重视，人们在开发高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。

与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由1代的TiN发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、cnx、DLC和ta－C等多元复合涂层。

全自动电镀生产线运行快稳、产量高、质量稳定，但没有手动线那样的随意性，因而更改亦较困难。由于投资较高，决策前须考虑周到、成熟并长远些，选择时应从自身实力、产量大小、品种范围、质量要求、管理档次、自动化程度、发展目标等几个方面综合考虑。完成各类电镀工序的操作中，几乎没有什么手工操作，而是通过机械和电气装置自动地完成全部电镀工序过程，因而可以大幅度提高劳动生产率、稳定产品质量，降低工人劳动强度，并可改善劳动条件；所以深受生产工人的欢迎。但是设计比较复杂；所需设备、装置的制造和购置成本较高；生产、维修、养护的工作比较复杂。