钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
仪器采用径向观测与轴向观测设计,适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用CaF2棱镜,提高光路传输效率。
优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。 包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器,稳定,体积小巧,,匹配速度快
冷锥消除尾焰技术,地降低自吸效应和电离干扰,从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景,保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式,待机时降低输出功率,减小气体流量,仅维持等离子体运行,节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计,快速定位,的位置重现。 实时监控仪器运行参数,CAN工业现场总线,保障通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计,自动定位炬管位置,的位置重现。
ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵,提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应,高紫外量化效率,抗饱和溢出,具有极宽的动态范
围和极快的信号处理速度。 一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,从而获得更为快速、准确的分析结果。
ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸,像素,单像素面积24μm X 24μm,三级半导体制冷,制冷温 度 低,具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计,流畅易懂,简便易用,针对分析应用优化的软件系统,无须复杂的方法开发, 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库,智能提示潜在干扰元素,帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置,直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽,减少电磁辐射 连锁门保护,避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统:中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm
2. 谱线范围:165nm~900nm,光学分辨率:0.007nm(200nm处)
3. 光栅规格:中阶梯光栅,52.67刻线/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器,小巧有效
5. 40.68MHz频率提高信噪比,改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管,降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵,具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好:重复性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);稳定性:RSD
≤2.0%(大于3小时)
由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题,接近于商品水平的产品样机将于年内完成;ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试,采集到正确的谱图,这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理攻克。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。
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