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东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。

显影的主要过程如下：对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

曝光后烘（PEB)

曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会

产生相互干涉，其光强会沿着胶体水平方向形成波纹形状，即驻波。

目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB ，减少驻波效应带来的影响。

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曝光显影

1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。

2、曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。

3、显影：通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。

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1:为压缩整机厚度，后盖弧度大可增加架构空间，另未来5G的发展，器件增加，空间需加大;

2:为满足ID对于外观圆润一体，符合人体工程学需求;

综上可推出3D玻璃曝光显影技术是PET贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。