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钙钛矿镀膜机

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所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-05-20 09:11
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详细说明
   钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置,防止蒸发源被污染。
  技术参数:
  1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×
  450mm×450mm
  2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统
  3、真空度:镀膜室极限真空≤6×10-4Pa
  4、系统漏率:≤1×10-7Pa
  5、蒸发源:安装在真空室的下底上;有机蒸发源4个、容积5ml,2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度400℃,功率0.5KW;无机蒸发源4套、容积5ml,2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW;蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启
  6、样品架:安装在真空室的上盖上,可放置?120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm
  7、加热温度:RT-180℃,测温、控温
  钙钛矿镀膜机
  http://www.sykejing.com.cn/Products-24704296.html
  https://www.chem17.com/st5171/erlist_2339803.html
原文链接:http://www.ybxx.org/caigou/53832.html,转载和复制请保留此链接。
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