曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上,正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中,进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后,就可以显现出光刻胶中的图形,显影喷淋(developer dispense):在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上,显影喷嘴分为以下几种:E2喷嘴,LD喷嘴,GP喷嘴,MGP喷嘴等。拉丝面曝光显影抛光拉丝面曝光显影抛光拉丝面曝光显影抛光拉丝面曝光显影抛光曝光显影是一种摄影术语,它是指将感光材料(如胶片、电影胶片或者数字摄像机中的传感器)通过曝光的方式记录下光影信息,再通过显影的方式将光影信息制成可视的影像的过程。将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上,正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中,进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后,就可以显现出光刻胶中的图形,原文链接:http://www.ybxx.org/caigou/47129.html,转载和复制请保留此链接。
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