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真空电镀适用材料

1.很多材料可以进行真空电镀，包括金属，软硬塑料，复合材料，陶瓷和玻璃。其中常见用于电镀表面处理的是铝材，其次是银和铜。

2.自然材料不适合进行真空电镀处理，因为自然材料本身的水分会影响真空环境。

真空电镀是常见的金属表面处理技术。由于不需要模具，所以工艺成本很低，非常适合用于早期产品手板，让设计师在设计过程中能对产品成品有更好的把握

栩栩如生的色彩也可以应用在真空电镀中，使产品表面达到阳极铝，亮铬，金，银，铜和炮铜（一种铜锡合金）的效果

真空系统的基本知识

真空的定义：压力低于一个大气压的任何气态空间，采用真空度来表示真空的高低。

真空单位换算：1大气压≈1.0×105帕=760mmHg=760托

1托=133.3pa=1mmHg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

TCO玻璃=Transparent Conductive Oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃

TCO材料：

SnO2:F(FTO fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)

ZnO:Al(AZO aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)

In2O3:Sn(ITO indium tin oxide 氧化铟锡)

TCO薄膜的制备工艺

1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的，改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生长温度低，与基板附着性好，能大面积均匀制膜且制膜成本低。

2.主要生产工艺：镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度；刻蚀过程中有HCl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。

再到后来更多的是直接高光注射出来，到现在的新能源汽车，格栅饰件基本上消失；内外饰金属化塑料表面，传统电镀目前流行的一个趋势是真空镀膜技术，具有以下优势：

在金属化塑料表面，真空镀具备透光性，传统电镀没有。在背面光源关闭时呈现金属质感，光源打开时呈现出发光效果；

真空镀工艺在保证金属质感的同时，具有良好的透波性能；

基材更加的多样化，如透明PC、ABS+PC、透明PMMA等可以更好的与真空镀膜技术进行表面处理的技术结合。

膜层是纳米级膜厚，具备良好的激光的剪裁性能，可以实现图案制造的柔性化生产

镀层对人无生物伤害的物理伤害

在制造过程中环保无污染

真空电镀是在真空条件下用蒸发器加热待蒸发物质，使其气化并向基板运输在基板上冷凝形成固态薄膜的过程。

真空电镀与其他气相沉积技术相比有许多优点：设备比较简单、容易操作；制备的薄膜纯度高、成膜速度快；薄膜生长机理简单，易控制和模拟。

真空电镀技术的不足：不易获得结晶结构的薄膜；沉积的薄膜与基板的附着性较差；工艺重复性不够好。

真空蒸发镀膜原理

（1、基片加热电源；2、真空室；3、基片架；4、基片；5、膜材；6、蒸发盘；7、加热电源；8、排气口；9、真空密封；10、挡板；11、蒸汽流）